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    350型四源有機無機熱蒸發

    文章來源:pengchengzk 更新時間:2018-01-22

    350型四源有機無機熱蒸發

    主要用途:
    用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、 半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應用 于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。
    系統組成:
    主要由真空室系統蒸發室、蒸發源系統、樣品臺系統、 真空抽氣及測量系統、氣路系統、控制系統、膜厚測試 系統、上蓋液壓開啟機構、電控系統組成。
    技術指標:
    極限真空度5×10-5Pa,系統漏率:1×10-7PaL/S; 恢復真空時間:40分鐘可達6.6×10 Pa(短時間暴露 大氣并充干燥氮氣后開始抽氣)
    真空室:圓形真空室,尺寸300× 350mm
    樣品臺:尺寸為3英寸×3英寸,厚度3.2mm的平面樣品;
    金屬電極:數量:1支,標準型釬焊間接水冷結構;直徑Φ20㎜,內水冷。向上蒸發成膜;
    有機束源爐:數量:3支,標準型600度控溫,向上蒸發成膜;
    樣品架:在基片轉盤上有1個基片位置放置樣品托(樣品托可以分別放置2英寸)孔安裝加熱爐。為了在2英寸基片臺范圍內提高膜厚均勻性,基片在鍍膜位置實現自轉?;臏囟葟氖覝刂?00℃(硅片上表面的溫度,只需標定一次即可)
    4套擋板系統:基片擋板與源擋板;靶擋板共有3套,動密封手動控制; 樣品擋板(1套),磁力撥叉,
    手動控制 氣路系統:質量流量控制器1路 石英晶振膜厚控制儀:膜厚測量范圍0-999999Å 可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統

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