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    單室三源金屬熱蒸發鍍膜機

    文章來源:pengchengzk 更新時間:2020-01-22

    單室三源金屬熱蒸發鍍膜機

      單室三源金屬熱蒸發鍍膜機
      主要用途:
      用于制備導電薄膜,半導體薄膜,鐵電薄膜,光學薄膜等。
      系統組成:
      該設備由真空室、真空排氣系統、真空測量系統、電阻蒸發源系統、基片臺、樣品傳遞、烘烤照明、等部分組成。
      技術指標:
      極限真空度:≤6.7×10 Pa
      恢復真空時間:從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
      系統漏率:6. 7×10-7Pa.L/S;
      真空室:Ф450 x350mmU型真空室 ,
      蒸發源:3個,采用電阻蒸發舟的方式,至下向上蒸發鍍膜。蒸發舟與樣呂之間的距離為150~200mm;
      蒸發舟最高溫度為:室溫~800℃,控溫精度:±1℃;室溫~1300℃,控溫精度:±2℃;功率:1KW;
      樣品尺寸:100×50×(1~2)(厚)毫米,每次只鍍一個樣品,樣品可旋轉加熱;
      保證膜的牢固度,樣品在蒸鍍過程中,要加熱到400℃(最高溫度)。
      工作架類型及尺寸:拱型夾具Ø300或高溫爐盤Ø100
      烘烤溫度:400℃數顯自動熱偶控溫(高溫爐盤,數顯自
      動熱偶控溫可加熱到700℃)
      電阻蒸發源:電壓5V,10V,功率2.5KW,水冷電極1~2對。
      石英晶振膜厚控制儀:膜厚測量范圍0-999999Å

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