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    300A蒸發

    文章來源:pengchengzk 更新時間:2016-06-27

    300A蒸發

    設備目的
    進行金屬配合物的鍍膜(主要指有機)。

    技術要求:

    1、鍍膜室:鍍膜腔室尺寸約為Φ220×280mm,不銹鋼材料,圓柱形前開門結構,內帶有防污板。

    2、抽氣系統:采用分子泵+機械泵抽氣系統;

    2.1、真空度:鍍膜室的極限真空≤6×10-4Pa;

    2.2、系統漏率≤1×10-7PaL/s。

    3、蒸發源系統:

    3.1、有機源蒸發源一個,容積5ml,一臺蒸發電源,可測溫控溫,加熱溫度400℃,功率0.5Kw;

    3.2、擋板:蒸發源擋板采用手動磁力控制方式,控制其開啟;

    3.3、安裝:蒸發源安裝在真空室的下底上。

    4、樣品架系統:

    4.1、樣品架可放置大小為Φ50mm的樣品,載玻片;

    4.2、樣品架可旋轉,旋轉速度為:0~30轉/分;

    4.3、安裝:樣品安裝在真空室的上蓋上,蒸發源安裝在真空室的下蓋上,向上蒸發鍍膜,蒸發源都帶有擋板裝置。

    5、樣品在鍍膜過程中,帶有烘烤加熱功能,最高烘烤加熱溫度為:室溫~180℃,測溫控溫。

    6、設備帶有斷水斷電連鎖保護報警裝置、防誤操作保護報警裝置。

    實施方案

    該設備主要由真空抽氣及測量系統、鍍膜室系統、蒸發源及控制系統、樣品臺系統、輔助系統、電控系統等組成。

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