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    CK500多靶磁控(連接手套箱)

    文章來源:pengchengzk 更新時間:2018-09-03

    CK500多靶磁控(連接手套箱)

    設備用途:
    用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
    設備組成
    系統主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(3個靶)、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。
    技術指標:
    1. 極限真空度6.7×10-5Pa; 分子泵滿速1小時后真空度達到4×10-4Pa;
    2. 超高真空磁控靶:有效尺寸2英寸,數量:2支,永磁靶(自帶側開擋板),水冷;
    3. 靶基距120-200mm可調,用光軸加直線軸承導向,可手動連續調節,有刻度指示;三靶共濺射,靶可擺角度,角度為0~45℃;
    4. 樣品加熱:采用碘鎢燈加熱方式對樣品進行加熱,樣品最高可加熱600℃;
    5. 磁控濺射樣品有效尺寸:Φ100mm,一次只鍍1片;鍍膜時樣品架實現自轉,自轉轉速為0~50轉/分;樣品加負偏壓0-200V可調;
    6. 氣體控制:氣體流量通過兩路質量流量控制器控制,流量范圍為:0~50 sccm;
    7. 系統帶有自動控制功能,主要實現樣品的加熱控制;樣品的旋轉控制;磁控靶檔板的控制;真空度的采集。

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